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Erster Kühler von Telemark Cryogenics

Dieser Tage wurde der erste Kühler vom Typ TVP3500 von Telemark Cryogenics bei der Firma FHR Anlagenbau in Betrieb genommen. Mit diesem Kühler wird eine Meißnerfalle in einer Beschichtungsanlage gekühlt.

TVP3500 Telemark Cryogenics


Erfolgreicher Einsatz der Kryofalle MicroStar bei FHR Anlagentechnik

Kürzlich wurde die erste Kühlfalle MicroStar von FHR Anlagentechnik an einer Sputteranlage eingesetzt. Mit dem MicroStar verringert sich die Abpumpzeit von 43 min auf 23 min. Es waren vom Kunden 30 min Abpumpzeit auf 2,0*E-6 mbar spezifiziert, die nur mit Hilfe des MicroStar zu erreichen sind.

 
Kryofalle MicrStar   Kryofalle MicrStar


 

Große Diffusionspumpen an In-Line Anlage

Die Firma Alanod in Ennepetal erwarb kürzlich 4 große Diffusionspumpen der Nennweite 630 mm von HSR. Diese Pumpen sind an einer großen Durchlaufanlage montiert. In dieser Anlage wird Metallband mit unterschiedlichen Funktionsschichten beschichtet.

   




Dritte Kryopumpe

Eine dritte Kryopumpe von Sumitimo (SHI) Cryogenics wurde am Institut für Halbleiterphysik in Frankfurt (Oder) an einer MBE Anlage in Betrieb genommen.

   



Solenoidmagnet an der ETH Zürich

Am Institut für Nahrungsmittel und Ernährung der ETH Zürich läuft seit kurzem ein "trockener", d. h. mit Kältemaschine gekühlter Solenoidmagnet von Cryogenic. Mit ihm werden Untersuchungen an Lebensmittelproben zur Kombination starker Magnetfelder mit destabilisierenden Scherkräften durchgeführt. Weitere Informationen (PDF, 225 KB)




Kryopumpe Marathon-12 bei Roth & Rau AG

Die Photos zeigen die Kryopumpe Marathon-12 an einer Ion Beamer Sputter Deposition Anlage (IBSD) mit zwei Ionenstrahlquellen LISQ400 und einem Linearen Substratbewegungssystem mit überlagertem Substratspin. Es werden damit dünne Multischichten für Röntgenspiegel, EUVL-Spiegel und ähnliche Anwendungen am IWS in Dresden hergestellt

Marathon-12     Marathon-12     Marathon-12


Vier Wasserdampffallen MicroStar an einer Sputteranlage von Von Ardenne Anlagentechnik für die Herstellung von MEMS-Bauelementen

Diese Anlage wird u.a. für das Sputtern von Leichtmetalllegierungen mit hohen Anforderungen an Schichtqualität und Reproduzierbarkeit bei der Fertigung von hochgenauen, freitragenden Mikrospiegelarrays genutzt.

von Ardenne     von Ardenne




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