JCM : Temperatursensoren, Kryostate, Widerstandssensoren, Thermoelemente, Displex-Kühler, Pulsröhren-Kühler, Kryopumpen, Stirling-Kühler, GM-Kühler, Öldiffusionspumpen, Titan-Sublimationspumpen, Katalysator-Fallen, Umlaufkühler, Ionenquellen, Beschichtungsanlagen, XTM/2, XTC/2, Plasmaquellen, Plasmastrahl-Quellen, Ionenstrahl-Quellen, Faraday-Auffänger, Magnetron-Kathoden, Rundkathoden, Rechteckkathoden, Sputter-Stromversorgungen, ParyleneJCM : Temperatursensoren, Kryostate, Widerstandssensoren, Thermoelemente, Displex-Kühler, Pulsröhren-Kühler, Kryopumpen, Stirling-Kühler, GM-Kühler, Öldiffusionspumpen, Titan-Sublimationspumpen, Katalysator-Fallen, Umlaufkühler, Ionenquellen, Beschichtungsanlagen, XTM/2, XTC/2, Plasmaquellen, Plasmastrahl-Quellen, Ionenstrahl-Quellen, Faraday-Auffänger, Magnetron-Kathoden, Rundkathoden, Rechteckkathoden, Sputter-Stromversorgungen, Parylene
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Centon Vacuum  http://www.dentonvacuum.com/

Beschichtungsanlagen

Denton Vacuum stellt eine breite Palette von Beschichtungsanlagen her. Neben großen Anlagen für die Produktion umfaßt diese auch kleine Anlagen, wie sie z.B. für die Probenpräparation in der Elektronenmikroskopie, die Qualitätssicherung in der Halbleiter- und Mikrossystemtechnik und für Grundlagenuntersuchungen verwendet werden.


Denton Vacuum - Sputter Anlage, Aufdampfanlage, Beschichtungs Anlage, Düschicht Anlage, Ionenquelle, IAD, PVD, CVD, PEVC, Vakuum Anlage, Ionenstrahl Sputtern

DESK IV

Mit der Tischanlage DESK IV lassen sich äußerst ökonomisch dünne Kohlenstoff- oder Metallschichten herstellen, wie sie z. B. für die ElMi-Probenpräparation benötigt werden. Mit einer zweistufigen Drehschieberpumpe werden kürzeste Zykluszeiten (3-5 min) erreicht.
In der Standard-Version ist die DESK IV mit einer kleinen Magnetron-Sputterkathode für Folientargets ausgerüstet. Alternativ kann eine Kohlenstoff-Verdampfereinrichtung eingebaut werden. Darüber hinaus wird eine umfangreiche Zubehörpalette angeboten, diese umfasst u. a. Substrat-Drehteller, größere Rezipienten, Turbopumpe und Online-Schichtdickenmessung. Die Drehschieberpumpe ist in das Anlagengrundgestell integriert, damit ist die DESK IV eine echte Tischanlage. Die Beschichtung sowie das Abpumpen und Fluten der Anlage erfolgen weitestgehend automatisiert. Das Touch-Panel an der Frontseite ermöglicht eine einfache Bedienung der Anlage.

Datenblatt (PDF, 500 KB)


BTT IV

Die Tischanlage BenchTopTurbo IV wird mit der Kombination einer Drehschieberpumpe und einer Turbopumpe evakuiert. Obwohl diese Anlage ebenfalls für die REM Probenpräparation entwickelt wurde, ist sie gleichzeitig die kleinste "große" Beschichtungsanlage. Trotz ihrer Kompaktheit kann sie mit größeren Rezipienten und Pumpen, mit Hochleistungs-Sputterkathoden sowie mit Schwingquarz-Meßgeräten ausgestattet werden. Dank dieser Optionen lassen sich mit dieser kleinen Anlage auf einer begrenzten Fläche bereits anspruchsvolle Schichtsysteme sehr ökonomisch realisieren. Die BTT IV eignet sich damit bestens für den Einsatz in der Dünnschicht-Entwicklung.

Datenblatt (PDF, 700 KB)
Denton Vacuum - Sputter Anlage, Aufdampfanlage, Beschichtungs Anlage, Düschicht Anlage, Ionenquelle, IAD, PVD, CVD, PEVC, Vakuum Anlage, Ionenstrahl Sputtern


Denton Vacuum - Sputter Anlage, Aufdampfanlage, Beschichtungs Anlage, Düschicht Anlage, Ionenquelle, IAD, PVD, CVD, PEVC, Vakuum Anlage, Ionenstrahl Sputtern

Desktop Pro

Die Desktop Pro ist eine Vollblut-Sputteranlage im Tischformat. Mit dem hohen Saugvermögen der direkt angeflanschten Turbopumpe sind auch anspruchsvolle Reaktivprozesse problemlos und stabil möglich.
Die Desktop Pro kann 1 oder 2 Kathoden der Targetgröße 3"(75 mm) aufnehmen. Sie bietet DC, MF und HF-Prozesse sowie Kombinationen aus diesen.
Auch die Desktop Pro wird über ein Touch-Panel an der Frontseite bedient.

Datenblatt (PDF, 3.6 MB)


Vergleich der Tabletop-Anlagen

Desk IVBTT IVDesktop Pro
AufdampfenXXX
SputternXXX
Magnetron-Sputtern XX
Simultan-Sputtern  X
Reaktiv-Sputtern (X)X
Substrat-BIAS XX
max. Substrat ø [mm]100100100
VorpumpeXXX
TurbopumpeOptionXX
HV-Ventil XOption
LN2-FalleXXX
pmin [mbar]1 * 10-31 * 10-51 * 10-6


 

Discovery HDG Pro

Die Ionenstrahl-Sputteranlage Discovery HDG ermöglicht die Herstellung dünner Schichten höchster Qualität. Sie kann für unterschiedliche Prozesse konfiguriert werden, wie Ionenstrahl-Sputtern, auch mit Sekundärquelle und/oder reaktiv, Ionenstrahl-Ätzen, auch reaktiv, sowie weitere Quellen-unterstützte Beschichtungs- und Ätzprozesse.
Die Verwendung bewährter Komponenten von Veeco, wie Ionenquellen und Targethalter, gewährleistet erstklassige und reproduzierbare Ergebnisse.
Die Discovery HDG kann in zahlreichen Varianten individuellen Prozesserfordernissen optimal angepasst werden. Die Zubehörpalette umfasst u. a. unterschiedliche Vakuumpumpen, auch chemiefest, Ionen- und Plasmaquellen, Endpoint-Überwachung sowie RGA/PGA.
Es gibt die Discovery HDG sowohl mit SPS, als auch mit vollautomatischer Steuerung, mit den entsprechenden Möglichkeiten, u. a. für die Speicherung und Verarbeitung der anfallenden Daten.

Datenblatt (PDF, 2.2 MB)
Denton Vacuum - Sputter Anlage, Aufdampfanlage, Beschichtungs Anlage, Düschicht Anlage, Ionenquelle, IAD, PVD, CVD, PEVC, Vakuum Anlage, Ionenstrahl Sputtern


Denton Vacuum - Sputter Anlage, Aufdampfanlage, Beschichtungs Anlage, Düschicht Anlage, Ionenquelle, IAD, PVD, CVD, PEVC, Vakuum Anlage, Ionenstrahl Sputtern

Voyager

Die Voyager wurde speziell für reaktive Plasmaprozesse konzipiert. Sie kann für unterschiedliche Beschichtungs- und Ätzprozesse, in Plattenkonfiguration oder quellengestützt, natürlich auch reaktiv, konfiguriert werden. Diese Konfiguration wird jeweils zusammen mit dem Kunden den Prozeß-Erfordernissen optimal angepaßt.
Durch die langjährige Zusammenarbeit von Denton Vacuum mit der Ecole Polytechnique in Montreal verfügt Denton Vacuum über umfangreiches Prozeß-Know-How, welches den Kunden nach Absprache zur Verfügung steht.

Datenblatt (PDF, 1 MB)


Denton Vacuum - Sputter Anlage, Aufdampfanlage, Beschichtungs Anlage, Düschicht Anlage, Ionenquelle, IAD, PVD, CVD, PEVC, Vakuum Anlage, Ionenstrahl SputternDenton Vacuum - Sputter Anlage, Aufdampfanlage, Beschichtungs Anlage, Düschicht Anlage, Ionenquelle, IAD, PVD, CVD, PEVC, Vakuum Anlage, Ionenstrahl SputternDenton Vacuum - Sputter Anlage, Aufdampfanlage, Beschichtungs Anlage, Düschicht Anlage, Ionenquelle, IAD, PVD, CVD, PEVC, Vakuum Anlage, Ionenstrahl Sputtern


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Dünne Schichten e.V.

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