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Plasmaquellen und Ionenquellen

Zahlreiche Dünnschicht-Prozesse erfordern heute den Einsatz mehr oder weniger grossflächiger Ionenquellen und Plasmaquellen, da die Anforderungen an die Schichteigenschaften kontinuierlich steigen und sich mit den konventionellen Apparaturen nur noch schwer oder gar nicht mehr erreichen lassen. Typische Beispiele für solche Prozesse sind:
  • In-Situ-Reinigung und Präparation von Oberflöchen vor Beschichtungen
  • Ätzen von Strukturen (IBE, RIBE) in der Mikroelektronik und der Mikrostrukturtechnik
  • Nanopolieren von Oberflächen, z. B. optischer Komponenten
  • Ionenstrahl-Sputtern (IBS) für höchste Schichtqualität, z. B. für optische Komponenten von Hochleistungslasern
  • Abscheidung aus der Gasphase (PE-CVD), z. B. von hartem Kohlenstoff, für Anwendungen aus den Bereichen der IR-Optik, der Datenspeicher und der Tribologie
  • Ionenunterstützte Beschichtung (IAD, IBAD), z. B. für die Optik
  • Oberflöchennahe Ionenimplantation, z. B. in der Mikroelektronik und der Tribologie
Für diese Prozesse werden sowohl reaktive Gase, wie z. B. Oxide, Fluoride und Chloride, als auch inerte Gase benötigt. Die für diese Prozesse benutzten Ionen- und Plasmaquellen müssen daher mit diesen Gasen kompatibel sein.

Die Firma IPT stellt zwei komplementäre Baureihen grossflächiger Strahlquellen her:

Plasmastrahl-Quellen der PBS-Baureihe
Die PBS-Quellen liefern einen niederenergetischen, stromstarken und selbstneutralisierten Plasmastrahl. Dieser kann, je nach Geometrie des Extraktionsnetzes, divergent, kollimiert, oder konvergent sein. Die PBS-Quellen sind mit fast allen Gasen, vor allem auch reaktiven, betreibbar.

Ionenstrahl-Quellen der WRS-Baureihe
Die IBS-Quellen liefern einen nahezu monoenergetischen Ionenstrahl hoher Stromdichte. Die Strahlenergie lässt sich innerhalb weiter Grenzen verstellen und damit vielfältigen Anwendungen anpassen.

Darüber hinaus liefert IPT einen

Faraday-Auffänger für die Strahlanalyse,
um Nutzern von Plasma- oder Ionenquellen die Möglichkeit zu geben, das radiale Strahlprofil oder die Energieverteilung zu messen und zu optimieren.
Diese Sonden werden einzeln oder in Mehrfach-Anordnung geliefert, auf Wunsch auch mit den notwendigen Stromversorgungen.



JCM ist Mitglied der
Deutschen Physikalischen Gesellschaft
 
JCM ist Mitglied der
Europäische Forschungsgesellschaft
Dünne Schichten e.V.

Europäische Forschungsgesellschaft Dünne Schichten e.V.