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Milman, Mini PVD Station


Die kompakte Sputteranlage "Mini PVD Station" ermöglicht einen preiswerten Einstieg in die Hochvakuum-Beschichtung. Mit dieser Anlage können planare Substrate bis etwa 100 mm Durchmesser gleichmäßig beschichtet werden.
Die eingebaute 2" Magnetron-Kathode kann in paralleler oder abgewinkelter Anordnung eingebaut werden. Es sind auch 2 Kathoden für alternativen oder simultanen Betrieb möglich. Neben dem Sputtern (elementar oder reaktiv) kann die Anlage auch für weitere Prozesse, wie z. B. thermische Verdampfung, PE-CVD oder RIE, konfiguriert werden.



Milman, Mini PVD Station Weitere Informationen (PDF, 647 KB)









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