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Thin Film Consulting



Heutzutage werden für Sputterprozesse fast ausschließlich Magnetron-Kathoden eingesetzt. Mit den immer weiter steigenden Anforderungen an die Qualität der gesputterten Schichten sowie an die Ökonomie der Anlagen steigen auch die Anforderungen an die Kathoden. Neben guten und reproduzierbaren Schichteigenschaften und hohen Beschichtungsraten werden meistens auch eine möglichst gute Schichtdickengleichmäßigkeit und eine hohe Ausnutzung des Targetmaterials gefordert.


Die schwäbische Firma Thin Film Consulting bietet ein breites Spektrum runder und rechteckiger Magnetron-Kathoden an. Die wichtigsten Eigenschaften lauten:
  • geklemmte oder gebondete Targets
  • indirekte Kühlung
  • Einbau- oder Anbauversionen
  • HV- und UHV-Ausführungen
  • spezielle Magnetsätze für magnetische Materialien
  • das Erosionsmuster kann in Grenzen den Kundenwünschen angepasst werden
  • optimierte Kühlwasserführung
  • Kathodenkörper thermisch und mechanisch optimiert


Rundkathoden

Die Rundkathoden gibt es mit Targetdurchmessern von 2" (ca. 25 mm) bis 16" (ca. 400 mm).

Rechteckkathoden

Die Rechteckkathoden gibt es in Standardbreiten im Bereich von 1,5" (ca. 38 mm) bis 12" (ca. 300 mm), die bei Bedarf aber variiert werden können. Bisher wurden Kathoden bis 12' (ca. 4 m) Länge gebaut. Die Rechteckkathoden werden als Einfachkathoden für konventionelle DC- und HF-Prozesse sowie als Doppelkathoden für das Mittelfrequenz-Sputtern angeboten.


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