Rotierende Magnetronkathoden
Rotierende Magnetronkathoden
Die rotierenden Magnetronkathoden zeichnen sich durch diese Merkmale aus:
- sehr hohe Materialausnutzung
- Targetlänge bis 1 m
- Betrieb mit DC, AC und gepulst (uni- oder bipolar)
- Magnetsystem motorisch verstellbar zur Optimierung der Gleichmäßigkeit
Einen ersten Eindruck erhalten Sie hier
Lineare Plasmaquelle
Die Lineare Plasmaquelle (Linear Universal Plasma Source LUPS) dient zur Unterstützung von PECVD Prozessen.
- Betrieb direkt in der Beschichtungskammer oder in separater Kammer (remote)
- Betrieb mit Wechselspannung, Hochfrequenz oder Mikrowellen, oder Kombinationen
- verstellbares Gasinjektionssystem zur Optimierung der Gleichmäßigkeit
- Betriebsdruckbereich umfasst 3 Dekaden
- eingebaute Vorrichtung zur Selbstreinigung für lange Prozesse ohne Öffnen der Kammer
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W&L bietet zwei Modelle der Anlage für die Beschichtung mit Diamant und diamantartigem Kohlenstoff an, die NCS 6-300 und die NCS 3-150.
Mit der Kombination eines gepulsten Mikrowellenplasmas und der linearen koaxialen Antennentechnologie können hohe chemische Umsatzraten erreicht werden, ohne das Substrat gleichzeitig mit einem hohen Wärmeeintrag zu belasten.
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Auf Wunsch werden die Anlagen auch mit installiertem Prozess angeboten.
Bei der Beschichtung von Teilen mit Edelmetallen ist der sparsame Umgang mit den wertvollen Ausgangsmaterialien wichtig. W&L bietet für diesen Zweck die Anlage NMS450 an. Es können dreidimensionale Komponenten bis zu einer Größe von Ø 120 mm x 400 mm beschichtet werden. Die Kathoden und ihre Umgebung sind so beschaffen, dass fast das gesamte deponierte Material wiedergewonnen werden kann. In der Maximalausstattung besitzt die NMS450 zwei Sputterstationen und eine Ätzstation zur Vorreinigung.
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